学:“这是大好事,回头等试产测试的时候记得通知我,我回头也去看看!”
光刻机的研发,其实是一个比较漫长的过程,并不是说样机搞出来就能用了。
海湾科技这边在去年十月份的时候,实际上就已经搞出来了第一台测试样机,但是这种样机只能用于一些子系统的技术验证,测试各种技术指标,看看造出来的产品能不能用。
距离实际投产还远着呢。
经过了持续半年的技术验证,调整改进,直到今年四月份,才算是搞出来了第一台真正意义上的样机,理论上可以用于生产的那种!
但也只是理论上!
实际上搞出来这种测试样机后,还需要进行反复的各种测试,调整,同时还需要晶圆厂方面的各种测试反馈,这个过程往往需要大半年甚至一年以上的时间。
而这,说的还是DUV浸润式光刻机这种成熟的,有着可以借鉴的光刻机。
如果是EUV光刻机,从测试样机到量产,得好多年呢。
ASML在几年前就已经向四星交付了第一代EUV光刻机,后续也向台积电交付了研究测试样机,这种交付的EUV光刻机,实际上就是研究测试用的,是没有办法用于芯片生产的,
过去几年四星以及台积电,都在积极配合ASML进行各种的研发测试,至于测试量产量产机型原本预计在16年左右交付。
以上,说的还是正常情况。
而实际情况是,因为中间受到EUV光源子系统供应商以及其他部分关键零部件供应商的‘非常规意外’,
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