战争落于下风。
群聊里提到的光刻机工作台和9n宽光刻技术的研究项目在几年前立了项,可还有不少光刻机相关研究项目是在‘芯片制裁’后才成立。
距离美帝亮出獠牙也不过两三年的时间,盛明安觉得他们没有太多时间等待他人警醒。
有些科研项目已进行到一半或尾声的,他要尽早联系。
有些项目还没立的,他得抢先联系团队。
现在是争分夺秒的时刻,他们确实没有太多时间。
盛明安拿笔在纸上迅速简画出光刻机结构,先简单划分其主要核心系统工作台、投影物镜和光源。
光刻机双工作台:首都中卓精科科技,主创团队水木大学教授。
其次是光源系统即光源的产生(涉及激光器)、光的收集(涉及极高精密反射镜),最后是光的纯化和均一化(涉及镜头均匀和曝光技术)。
然后是投影物镜……
草稿本很快全是密密麻麻的注释,每一个系统、每一个关键技术对应着哪个公司、哪个团队全部写下来。
完成后,盛明安再检查一遍,没发现遗漏,拨通陈惊璆的电话:“跟你说点事。”
陈惊璆:“我听着。”
盛明安长话短说,“光电实验室的甘教授团队前年启动攻克9n刻技术项目,联系他们谈合作的事。”
陈惊璆:“可行吗?”
盛明安在草稿本光刻技术这里画了个圈并说:“甘教授读博期间曾在光刻技术上突破光学衍射极限,他本人非常擅长光刻技术。”
陈惊璆:“我现在通知林成建。”
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