第611章 图穷匕见

能耗堪比小型城市用电量，反观ASML的EUV光刻机，虽单价1.5亿欧元，但其每小时处理300片晶圆的效率已摊薄至每片芯片成本可忽略不计。若“光刻工厂”量产7nm芯片，其单位成本将是现有技术的千倍以上。”

“产业链割裂，半导体制造是全球化分工的典范。ASML的EUV光刻机依赖德-国蔡司镜头、白头鹰联盟国的Cymer激光器、樱花国的光刻胶等5000余家供应商的协同创新。所谓“光刻工厂”试图以举国之力重构全链条，但即便抛开技术障碍，其供应链效率也将落后国际水平至少15年——正如华-国的28nm

DUV光刻机仍无法实现ASML

2007年TWINSCAN

XT:1900Gi的可靠性与吞吐量。”

“三、战略误判：对产业生态的破坏性冲击。”

“扰乱市场秩序。来自华国的订单占ASML全球营收的25%，且需求集中于成熟制程。若强行将资源倾注于违背物理规律的技术路径，不仅将导致本土晶圆厂丧失竞争力，更可能引发全球成熟制程产能过剩危机。”

“知识产权风险：ASML已监测到多起来自某国企业工程师通过逆向工程、专利规避手段模仿DUV光刻机的案例，若“光刻工厂”依赖类似策略，其知识产权纠纷将重创该国半导体产业的国际信誉。”

“最后，我们再次重申一下我们的立场，合作优于对抗。”

“我们理解各国对技术自主的渴望，但是半导体产业需要理性和敬畏，ASML的High-NA

EUV光刻机已实现8nm线宽，且每瓦曝光效率提升20%，这才是产业公认的下一代方向。我们呼吁全球客户回归商业本质：与其寄希望于投资数百亿于“光刻工厂”这类科幻项目，不如与ASML共同优化成熟制程生态。”

“物理定律没有国界，但违背规律的技术豪赌终将付出代价。”

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