asml浸没式光刻机,原计划今年三月量产,8月到货,明年3月就能量产,只比其他采用65nm制程工艺的bsec浸没式光刻机半导体生产线晚半年左右,但计划赶不上变化,由于asml侵犯了bsec的公司发明专利,被bsec提起申诉,国际专利局终止了asml浸没式光刻机的专利申请,不能量产浸没式光刻机!只能等bsec明年1月拿到技术专利,授权给asml使用,明年5月才能拿到20台asml浸没式光刻机,安装调试和试生产后,明年底才能量产。
“董事长不必担心,华人首富为人大方,不会不给asml授权的。”
林本坚也不知道孙健大幅减持asml股要的缘由,只能安慰张仲谋。
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