第一七四四章 65nm半导体生产线量产

技园区建设的一条65nm制程工艺半导体生产线也将于9月试生产，到年底，国内将有3条65nm制程工艺的半导体生产线量产，对外代工芯片生产，抢先占领国内外65nm制程工艺的芯片代工市场。

去年7月，Intel、AMD、台联电分别从京城半导体集团定购了一条65nm制程工艺半导体生产线；工程建设进度最快的是台联电，计划于今年11月试生产；Intel、AMD的生产线计划于明年1月试生产。

京城半导体集团负责65nm制程工艺半导体生产线的设备安装调试和人员培训，知道每家的进度。

去年12月，ASML虽然宣传研发成功XT1400i浸没式光刻机，但因为侵犯了BSEC正在申报的纯净水介质的公司发明专利，由于这项专利到如今还没有得到国际专利局的专利技术证书，BSEC也不能授权，XT1400i浸没式光刻机也不敢量产，如今处于停滞状态。

GCA拥有EUV激光器研发成功和EUV原型机，借助于BSEC浸没式光刻机的技术，于今年1月，研发成功GCA65nm制程工艺的浸没式光刻机TWINSCANGNT:2450i。

去年12月，Nikon研发成功全球第一台157nm干式光刻机试验机，展示了Nikon在光学技术和光刻机系统研发方面的强大实力，有助于巩固其在半导体光刻设备领域的地位，吸引更多芯片制造企业的关注和合作；还没有听说Nikon65nm干式光刻机量产的消息。

（本章完）

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