“同时我们还在规划第四产线,准备把整个工厂的产能提升到每月八万片!”
“这样,再加上正规规划,建设当中的通城基地第三十厂的预期每月七万片产能,我们就能够达到每月十五万片的七纳米/五纳米产能!”
“而这还不包括第二十五厂里采用第一代七纳米工艺的产能,第二十五厂因为采用DUV浸润式光刻机生产等效七纳米工艺,其制造成本太高,良率也低,后续等EUV光刻机的七纳米产能,同时外部代工市场如果订单需求不足的话,我们可能会将会逐步把第二十五厂的产能转移为十二纳米工艺!”
第二十五厂的七纳米工艺产能,是属于特殊时代下的特殊产物……是智云集团和水果/高通/台积电联盟之间争夺全球首发七纳米工艺的特殊产物。
双方都不惜代价,耗费大量资金,也不惜昂贵的制造成本,强行使用NXT1980光刻机或HDUV-600B光刻机,采用四重曝光工艺制造等效七纳米工艺的芯片!
但是这种工艺可以想象的,同样的芯片,其最核心层晶体管的制造,人家HEUV-300B这种EUV光刻机曝光一次就完事了,但是用HDUV-600B浸润式光刻机的话,得曝光四次……足足四次啊!
用脚指头想都知道,这良率肯定好不到哪里去,生产效率也会非常低!
如今HEUV-300B光刻机已经出现了,智云集团都开始大规模采用EUV光刻机生产第二代七纳米工艺芯片了,那么使用DUV浸润式光刻机生产七纳米工艺芯片的技术,自然也就可以抛弃了。
但是……前期是EUV光刻机的第二代七纳米工艺有了剩余……如果EUV七纳米工艺供不应求的情况下,那么DUV浸润式光刻机生产的第一代七纳米工艺依旧会保留并继续生产。
本章未完,请点击下一页继续阅读! 第3页 / 共11页