第538章 半导体五年战略规划

c光刻机，预计今年剩下来的五个月里，预计出货四套该款光刻机！”

这个时候，王道林还向众人介绍了这款更先进的heuv-300c光刻机！

“对比第一代量产型的heuv-300b光刻机，我们的heuv-300c光刻机，拥有更高的套刻精度，达到了一点五纳米，可以满足更高精度的芯片生产需求，目前能够支持二十层的euv曝光，可以非常良好的支持等效五纳米工艺的芯片生产，乃至支持未来的等效三纳米工艺的生产！”

“并且光源功率也更高，生产效率也更高，其生产效率从heuv-300b型号的每小时一百二十片，提升到了heuv-300c的每小时一百八十片。”

“这将会带来先进工艺芯片的制造成本的整体下降，并进一步提升产能！”

“虽然这款heuv-300c光刻机的成本更贵，售价也更贵，但是我们认为这款光刻机拥有更高的性价比！”

一旁的智云微电子的丁成军道：“不错，我们智云微电子将会采用这款最新的heuv-300c光刻机量产等效五纳米工艺的芯片，后续的的等效三纳米工艺的前期生产，也将会使用这一款光刻机！”

“尽管heuv-300b型号的光刻机，同样能够生产等效五纳米工艺的芯片，但是因为等效五纳米工艺芯片所需要层数更多，使用heuv-300b光刻机的话，芯片良率不太行，生产效率不太行，成本过于高昂，所以我们已经暂停了使用这款光刻机制造五纳米工艺芯片的计划！”

第一代的heuv-300b光刻机的每小时生产效率只有一百二十片，对比heuv-300c的每小时一百八十片差了很多，再加上套刻精度的差距，最后导致用来生产五纳米芯片的话，就有些力不从心。

不是说不行，而是划不来！

丁成军继续道：“我们在建以及规划建设的多家晶圆厂，已经拟定采用这款heuv-300

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