第23章 新的突破！

性质的改变，这是整个工艺的基础。

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光刻胶有不同的类型，pmma（聚甲基丙烯酸甲酯）、聚甲基戊二酰亚胺（pmgi）以及dnq（酚醛树脂）等材料都可以做光刻胶。据有关资料显示，到2022年全球光刻胶市场市场价值将达到415亿美元，年复合增长率5.5%算起来这个市场比光刻机产值还要大得多，毕竟光刻胶是耗材。

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目前光刻胶市场上的参与者多是来自于美国、日本、韩国等国家，包括陶氏化学、杜邦、富士胶片、信越化学、住友化学、lg化学等等，天朝公司在光刻胶领域也缺少核心技术。

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但偏偏光刻胶技术却是整个光刻工艺中最最核心的技术之一！想弯道超车都是绝对绕不过去的一个关键环节！

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其实，光刻胶这种产品早已有之，光刻胶被应用在印刷工业上已经超过一个世纪了。但直到上世纪20年代，人们才发现它在印制电路板领域可以有广泛的应用。半导体工业采纳这种技术来生产晶圆是在20世纪50年代。在20世纪50年代末，eastman kodak和shipley公司分别出适合半导体工业需要的正胶和负胶。

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稍有历史常识的人都知道，那个年月共和国才刚刚成立，这个本就战乱不断的国家却在刚建国后又迎来了以美国为首的联合国军侵略同阵营的邻国，美军飞行员甚至一再越过边境线挑衅新天朝政府，可偏偏那会儿国内仅有的一点儿工业基础还是曰本人当初在伪满建立的，这绝对是天朝政府不可能放弃的，所以才有了那样血性的背水一战……

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但彼时，也正是西方国家科技发展最快的时候！

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整个上世纪50~70年代里，西方国家，尤其是老牌资本主义强国的科技水平都获得了质的飞跃，反观好不容易建立起工业基础的天朝，却在这一轮科技发展高峰期中，被越甩越远！

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像集成电路那么高大上的技术，虽然国家当时也从国防安全角度予以了跟进，但奈何本身思路的出发点不对，工业基础相差更是相当悬殊，所以目

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