第二百九十九章 摩尔定律你听说过没有

他说的毕主任，叫毕连生，是08实验室的室主任，一位不苟言笑的中年知识分子。

光刻技术，按照使用的光源不同，可以分为许多类，或者称为不同代际也可以。

上世纪60年代，光刻技术刚刚出现的时候，使用的是普通的可见光光源，那时候的光刻机其实就是拿一个大灯泡照射掩膜板，和照相馆里冲洗照片没啥区别。

80年代，光源进化为采用高压放电汞灯产生的436纳米和365纳米光源，前者称为G线光源，后者称为i线光源，都属于近紫外光源。

90年代之后，出现了使用准分子激光器的248纳米、193纳米和157纳米光源，分别称为KrF、ArF和F2光源，属于深紫外光源。

再至于被誉为“皇冠上的明珠”的EUV光刻机，使用的是13.3纳米的极紫外光源，它的出现时间已经要算到2010年之后了。

时下，G线光源还是集成电路制造中使用的主流光源。i线光源光刻机已经问世，但还没有得到大规模推广。至于KrF，实验室概念已经提出来了，真正投入使用，还得是十年后的事情。

光刻的原理，与冲洗照片是一样的。首先，要把电路图制作成底片，称为掩膜。光源通过掩膜照射在涂了光刻胶的芯片基材上。

光刻胶由树脂、感光剂、溶剂和添加剂组成，其中的感光剂在光线照射下会发生反应，使曝光区的光刻胶溶解，这就相当于把掩膜上的电路图案复制到了芯片基材上。

随后，再进行蚀刻、离子注入、封装等操作，一枚芯片就制作完成了。

光刻胶中感光剂的选择，与光源是密切相关的，这涉及到化合物在不同波长光线作用下

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