第二百九十八章 确保有一战之力

国产化最为突出。

不过，对“卡脖子”的恐惧是深深刻在中国人基因之中的，在大批引进设备的同时，中国自己并没有完全放弃对半导体设备和相关材料的研究。

以后世网上炒得沸沸扬扬的光刻机为例：

1985年，机电部45所对标美国的4800DSW研制出了国内第一台分步投影式光刻机。

1990年，中科院光电所研制出IOE1010G直接分步重复投影光刻机，主要技术指标接近美国GCA8000型的水平，而GCA8000是美国在80年代中期开发出来的。

此后的八五、九五、十五期间，也都有相应的研究成果问世。中国在光刻机研究方面，虽然达不到国际一流水平，但也绝对没有被国外远远地甩开。

光刻机只是全部半导体设备中的一个例子，半导体领域的其他技术情况也是如此。可以这样说，中国时刻都准备着迎接最严峻的挑战，任何时候都要确保自己有一战之力。

(本章完)