236-237章：上马光刻机？（4000字）

光刻机？

阿斯麦尔？

这两个词语两女都并不陌生，反而都很熟悉。

随着半导体加工制程工艺的发展，手机芯片的制程不断进步，从最初的0.5μm、0.35μm，一路发展到十位数的nm时代。

到了2016年，由于高怀钧的时空乱入，现在的进度相比较他上一世快了很多，16纳米制程工艺已经成为手机处理器的标配。

然而现在高瓴芯片厂，不要说最先进的16纳米了，就算是28纳米都造不出来！

现在勉勉强强可以造出来32纳米的芯片出来。

而这也就是高瓴用一些低端产品养出来的结果。

不过现在最先进的EUV以及次先进的DUV都不卖给高瓴，其实就能够看出很多门道出来。

现在华国的华芯科技，华润微，鹏芯微、积塔半导体等除了最先进的EUV无法订购以外，普通的DUV基本只要定就可以卖！

而被限制出口给高瓴的2050i，2100i基本上可以视作当前最先进的一批DUV光刻机型号，广泛应用于40nm以下的制程产能中，对应28nm、以及未来会涉及到的14nm、10nm、7nm四个主要制程节点。

虽然这个没有任何明文上的规定，但是现在就算是高怀钧冒着被滞留下来的危险亲自跑到贺兰一趟，依然搞不定2050i以及2100i，那就足够说明了很多的问题！

在从贺兰回华国的路上，他知道，按照西方运转效率的速

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