第457章 盾构机

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掩模技术上可以搞相移掩模、光学邻近矫正和多重图案技术。

光刻胶材料朝着深紫外光刻胶的方向发展。

机械和控制系统就去研制精密对准和调平系统。

多管齐下的话。

足够在短时间内实现集成度的迅速突破。

……

用了两个小时左右的时间。

李暮才将所有的内容都阐述完毕。

他说完后。

黄新华“唰唰~”地记完最后一笔，当即惊叹道：

“没想到你竟然还能找出这么多的办法，这下100w集成度的问题就都解决了！”

他忽然有点理解M帝和老大哥那边的心情了。

自己连落后的技术都还没有研究出来。

李暮这边一出手就是一堆的更新的方案，差距简直不要太明显。

而且他几乎可以肯定，这些方案具有极高的可信度。

只要给他们一些时间。

突破100w集成度没有任何难度。

“幸好这样的天才，是出在我们夏国啊！”黄新华

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