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“不过想要建立符合的树脂体系,还需要不少的时间,在双组分树脂和梯度分布设计上,有待进一步提高……”
他简单地说了说情况。
当然,除了李暮提供的方法之外。
他们也不是毫无突破。
比如通过提高后烘温度,从而促进树脂的较量反应,增强机械强度。
又比如控制显影条件,减少显影液对树脂的过渡侵蚀,保护结构的完整性等。
通过调整光刻的工艺条件,也能够间接地改善机械强度和抗刻蚀性。
甚至令李暮有些意外地提出了分层设计的想法。
“采用多层光刻胶结构,低分子量树脂作为顶层,高分子量或抗刻蚀树脂作为底层。通过物理分层直接隔离性能需求,你觉得可不可行?”黄新华问道。
李暮笑道:
“当然可行,不过想要实现,需要克服多个难点。”
“不同的光刻胶层之间需要具有良好的粘附性,避免层间混合或界面的缺陷的出现。”
“还有就是工艺兼容性的问题,溶剂侵蚀、热膨胀系统不匹配,都有可能影响成品……”
他说了一下自己的意见。
分层设计,也叫多层光刻胶技术。
不过这种技术,尽管在理论上具有显著优势。
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