第三百零九章 28纳米自主可控

让良率稳定在一定的水准。

如果套刻精度不足的光刻机，强行采用四重曝光生产七纳米芯片，良率会非常低，成本非常高昂，除非特殊情况，不然没人这么干的。

而海湾科技目前的目标，就是进一步缩小套刻精度，争取做到二点五纳米的水准，然后满足七纳米的生产需求。

不过这也挺难的，这可是实打实的物理极限的提升，每一纳米的套刻精度提升都是无比艰难的。

当然，二点五纳米套刻精度的光刻机，现在海湾科技还搞不出来，甚至三点五纳米套刻精度的光刻机，现在也磕磕绊绊，还得继续琢磨，估计下半年才能小批量供货测试，大规模量产使用，那都得明年去了。

但是，现在的五点五纳米套刻精度的HDUV-400光刻机，却是已经成熟可用了……智云微电子那边都用这款光刻机，大规模投产二十八纳米工艺的芯片了。

如果是用来生产三十二纳米工艺，四十纳米工艺或四十五纳米工艺这些更成熟的工艺，那就更不用说了，小菜一碟！

甚至都可以来上一句性能过剩。

智云微电子那边，开始使用HDUV-400光刻机进行投产，这个消息，让业内不少关注国产光刻机的其他芯片厂商看了大为动心。

他们也想要这种便宜好货，来大幅度降低先进工艺的资金投入啊。

海湾科技的光刻机，虽然整体性能差了点，比不过ASML的光刻机，但是人家卖的便宜啊，不仅仅售价便宜，后续的维护费用也便宜。

这就让很多资金不是很充裕的晶圆厂很动心！

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