新的灵感?”
研究所里的港岛员工看到他过来,自然也是过来做翻译。
王青松闻言笑了笑:“我可没有!样机试验怎么样了?”
距离他给的资料已经过去一年时间。
设备已经制造出来了。
或者说,半年前就已经制作出来一套光刻机设备。
但是这台光刻机有着这个时代光刻的通病。
那就是成品率。
主要原因自然是因为光掩膜的使用寿命。
现在是半导体的远古时代。
很多后世的软硬件这个时代都没有。
和后世的用计算机和EDA软件设计不同的是,这个时代的光掩模真的是靠人工手搓的。
初代工程师先在方格纸上用彩色铅笔绘制好集成电路版图。
再用精细的刀片在光掩模母版上,徒手把晶体管和电路连接一点一点刻出来。
最后用母版图形,用相机缩小50到100倍。
才能用一张用来做光刻的光掩模。
和这种光掩模匹配的自然是接触式光刻机。
这种光刻机只会简单粗暴的将光掩模覆盖在硅片上。<
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