第622章 ,外国人的钱赚起来更香

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掩模涂层与光刻机涂层直接接触，再打光照射，完成曝光。

但是这种光照方式的失败率和成本都很高。

因为胶体本身及其粘附的浮尘颗粒，不仅影响效果，还会对光掩模造成损伤。

10张晶片才能用有一张能用，还会加速光掩模的使用寿命。

成本是相当的高。

后来按照他给的资料，又在接触式光刻机的基础上，加了一个水平和垂直方向上可移动的平台。

以及一个测量光掩模和晶片之间的显微镜。

让两者在刻录的时候，靠近又不接近，解决了之前的问题。

也就是接近式的光刻机。

但是这种光刻机解决了之前的问题，但是精度下降。

所以这两款产品出来以后，他直接就放弃了。

直接用上了1974年才出来的投影技术。

这玩意成本还挺高的，需要不少的光学器件，都需要从日本进口。

当然了，这个成本高也是相对的。

此时王青松在那里琢磨着，如果能把电脑和EDA软件拿出来。

那光刻成本就会下降非常的多。

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