第229章 饱和式研发

“检查激光脉冲时序。”

陈辉没有慌张，手指在电路板上快速敲击，“可能是同步控制器的高频干扰。”

研究员林正则快速上前更换控制器。

但更换备用控制器后，问题依旧！

这次实验他们准备了半个多月，如果因为这个意外失败，哪怕能很快找到原因，也需要再等半个多月，陈辉不想等那么久。

周围的研究员们依旧在努力的排查问题，但显然都是徒劳。

沮丧的气氛在实验室中蔓延。

陈辉眼角余光却忽然瞥见墙角的红外热像仪数据，燃烧室模型入口处的温度比预期高了80K。

“等等，”他转身对吴志伟说到，“不是设备故障——是气流提前转捩了。”

“转捩？”吴志伟愣住，“预仿真里边界层应该在x=250mm才转捩，现在才x=180mm……”

“高焓气流里的空气分子解离提前了！”陈辉目光锐利，仿佛有两道实质的光芒从中射出，他调出实时热流密度曲线，“壁面热流比预测值高了30%，说明激波提前附着，边界层被提前加热，转捩位置前移。”

他的手指在空气动力学图上划出一道弧线，“原来的PIV观测窗设在x=200mm，现在激波在x=180mm，那里的流速场根本不是预想的‘未转捩层流’，而是‘湍流混合区’——难怪相机拍不到清晰的粒子轨迹，流场太乱了！”

一切豁然开朗。

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